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研究開発

1953年8月8日、日本初の表面処理薬剤メーカーとして起業いたしました。 お客様の希望される新しい技術を確立し、その技術に必要な薬剤を、開発し製造販売することを生業として、60年が経過いたしました。

この半世紀の間に、日本の産業界の変動と、拡張はすさまじいものでした。 この間、常に求められる新しい技術の提供を継続し、現在世界中にお客様を持つ企業に成長させていただきました。今後も、お客様のニーズに迅速、的確に答える技術開発を行い、社会に貢献していきたいと望んでおります。

そのためには、研究施設の更なる充実を図ることはもちろんですが、今まで獲得した技術、知識を自在に使いこなす知恵のある人を数多く育てることが、最も重要なことだと思っております。社外の大学や企業の開発機関との共同研究にも積極的に参加し、個人能力の向上を図っております。

主要装置・設備

  • 半自動キャリア式バレルめっきパイロットライン
  • 単槽式大型バレル試作機
  • 非水アルミ/アルミ合金めっき用試作装置(2台)
  • 各種小型遠心脱水装置(3台)
  • 中和沈降排水処理設備

分析機器・装置

  • XPS表面分析装置(アルバック社製)
  • EPMA波長分散型電子顕微鏡(日本電子製)
  • EDSエネルギー分散型電子顕微鏡(日本電子製)
  • X線回折分析装置(XRD)
  • 蛍光X線分析装置(2台)
  • ICP
  • AA
  • ポーラログラフィー
  • UV
  • FT-IR
  • HPLC
  • GC-MS
  • IC
  • キャピラリー電気泳動装置
  • カールフィッシャー水分計
  • その他(トルク測定機/ハンダ付け試験機/粘度計等)